金銅靶材廠-湖北金銅靶材-沈陽東創(chuàng)【精益求精】

詢盤留言 |投訴|申領(lǐng)|刪除 產(chǎn)品編號(hào)：578529577 更新時(shí)間：2024-05-04

沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司

主營業(yè)務(wù)：貴金屬材料
公司官網(wǎng)：www.dcgjs.cn
公司地址：沈陽市沈河區(qū)文化東路89號(hào)

業(yè)務(wù)熱線： 13898123309 (趙總先生)

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價(jià)格說明 : 議定
包裝說明 : 不限
物流說明 : 貨運(yùn)及物流
交貨說明 : 按訂單

背靶材料：

無氧銅(OFC)– 目前常使用的作背靶的材料是無氧銅，因?yàn)闊o氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性，而且比較容易機(jī)械加工。如果保養(yǎng)適當(dāng)，無氧銅背靶可以重復(fù)使用10次甚至更多。

鉬(Mo)– 在某些使用條件比較特殊的情況下，如需要進(jìn)行高溫帖合的條件下，無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲，所以會(huì)使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配，哪家有金銅靶材，同樣也需要使用金屬鉬作為背靶材料。

濺射技術(shù)：濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，湖北金銅靶材，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。

平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺(tái)金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺(tái)金靶材。如今一般采取方法生產(chǎn)ITO靶材，利用L}IRF反應(yīng)濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，金銅靶材哪家好，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。

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